日本在半导体材料领域是非常强的，特别是在光刻胶领域，那确实是处于垄断地位，拿下了全球70%以上的市场份额。
数据显示，中国每年都是从日本大量进口光刻胶，应该有60%左右的光刻胶从日本进口，可以说对日本领带较重。
而光刻胶是分为g线、i线、KrF、ArF和EUV这么5类，对就的是不同的芯片制造工艺，具体点来讲，是工艺越先进，难度越大，日本在这一块的占有率就越高。
为什么会这样呢，是因为中国目前自己能够生产的，还处于ArF阶段，并且还是相对低端一点的ArF，大约也就是65-40nm工艺的阶段，再往下就不行了。
所以高难度的就需要从日本进口了。
不过，虽然日本光刻胶这么强，还想着要卡中国脖子，但最近日本光刻胶也面临断供危险了，反而要向中国求援了。
原因是制造光刻胶的一种原材料因为美伊冲突，出现问题了。
这种原材料就是石脑油（naphtha），它经过高温裂解后可生产丙烯等中间体，用于生产生产环氧丙烷（PO），而PO又是另外两种材料PGME（丙二醇甲醚）和PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯）的重要材料。
而光刻胶在制造过程中，需要大量用到PGME和PGMEA，这两者合计占到光刻胶溶剂的90%以上。
因为霍尔木兹海峡被封锁，现在日本的石脑油（naphtha）供应出了大问题，日本12座石脑油裂解装置中有6座被迫减产。
这就导致后续光刻胶的制造也出现了材料紧张的问题，据称目前日本多家光刻胶巨头，已向晶圆发出了预警，即材料采购源断了，接下来光刻胶出货不可控了。
据称为了解决这个问题，日本的这些光刻胶企业，正通过中间商，接触中国的一些企业，希望通过中国企业，获得原材料。
因为目前中国的石油供应还是较为稳定的，那么石脑油（naphtha）的供给也是可控的。
不过，业内人士也称，因为光刻胶的品质关系到晶圆制造的良率，所以就算中国企业愿意给日本提供石脑油（naphtha），日本更换原料后，生产出来的光刻胶，要经过晶圆厂的重新测试认证，这个过程都是半年起，也许需要一年时间。
所以现在是很尴尬，可能是远水救不了近火，日本的原料问题，短时间之内根本就无法得到解决。
而这也充分说明，目前半导体产业，真的是全球一体化，某一个环节出问题，可能会引发后续的一系列问题，同时也说明供应链是你中有我，我中有你，想要卡住别人的人，说不定自己也会随时被卡。
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